靶材（鈦靶材、鋯靶材、鉻靶材、鎳靶材、鉬靶材、鎢吧、鋁靶材）

鍍膜靶材是通過(guò)磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。

常用靶材規(guī)格有：Φ100*40、Φ80*50、Φ80*40mm

交貨狀態(tài):退火狀態(tài)（M） 熱加工態(tài)（R） 冷加工態(tài)（Y）(退火，

表面處理：車光、倒角

表面光潔度：清潔，無(wú)塵

測(cè)試：力學(xué)性能，化學(xué)成分測(cè)試，超聲檢測(cè)。